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Mechanistic Insights into the Atomic Layer Etching of GaN Using XeF2 and BCl3 相关领域
空位缺陷
蚀刻(微加工)
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活化能
镓
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化学物理
化学
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扩散
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薄膜
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期刊:Journal of Physical Chemistry C 作者:Chuang Wang; Yuhang Jing; Weiqi Li; Jihong Yan; Jianqun Yang; et al 出版日期:2025-09-21 |
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