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标题
A Route to MoO2 film fabrication via atomic layer deposition using Mo(IV) precursor and oxygen reactant for DRAM applications
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DOI
10.1016/j.ceramint.2024.01.300 doi
其它 期刊:Ceramics International
作者:Ara Yoon; Hae Lin Yang; Sanghoon Lee; Seunghwan Lee; Beomseok Kim; et al
出版日期:2024-04-01
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楼下太吵了 在 2026-09-07 17:40:21 发布自北京,悬赏 10 积分
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