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Fabrication of β -Ga 2 O 3 /Si heterointerface and characterization of interfacial structures for high-power device applications
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DOI
10.35848/1347-4065/ac4c6c doi
其它 期刊:Japanese Journal of Applied Physics
作者:Jianbo Liang; Daiki Takatsuki; Masataka Higashiwaki; Yasuo Shimizu; Yutaka Ohno; et al
出版日期:2022-01-19
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