Real-time, noninvasive monitoring of ion energy and ion current at a wafer surface during plasma etching

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标题	Real-time, noninvasive monitoring of ion energy and ion current at a wafer surface during plasma etching
网址	https://doi.org/10.1116/1.2335862
DOI	10.1116/1.2335862 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Mark A. Sobolewski 出版日期：2006-08-21
求助人	圆圆在 2026-10-08 20:46:11 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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