标题 |
Bilayer channel structure to improve the stability of solution-processed metal oxide transistors under AC stress
改善溶液处理金属氧化物晶体管在交流应力下稳定性的双层沟道结构
相关领域
材料科学
薄膜晶体管
光电子学
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期刊:Materials science in semiconductor processing 作者:Tae Sun Park; Dongil Ho; H. H. Park; Sung Kyu Park; Choongik Kim 出版日期:2024-03-01 |
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