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 ICP cryogenic dry etching for shallow and deep etching in silicon ICP低温干法刻蚀用于硅的浅层和深层刻蚀
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Ünsal Sökmen; Michael Balke; Andrej Stranz; Sönke Fündling; Erwin Peiner; et al 出版日期：2009-04-23 |
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