Effect of thermal annealing on the dielectric, passivation and pH detection properties of aluminium oxide thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition

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标题	Effect of thermal annealing on the dielectric, passivation and pH detection properties of aluminium oxide thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition 热退火对等离子体增强原子层沉积氧化铝薄膜介电、钝化和pH检测性能的影响相关领域原子层沉积材料科学电介质钝化无定形固体高-κ电介质分析化学（期刊）薄膜退火（玻璃）结晶微晶多晶硅氧化铝铝薄膜晶体管化学工程光电子学纳米技术复合材料图层（电子）冶金化学结晶学色谱法工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2021.138761 AI链接 sciencedirect.com laas.hal.science laas.hal.science laas.fr laas.fr laas.hal.science laas.frdoi.org
DOI	10.1016/j.tsf.2021.138761 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Ahmet Lale; M Joly; Samir Mekkaoui; X. Joly; E. Scheid; et al 出版日期：2021-05-27
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