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 Corrosion inhibition mechanisms of triazole derivatives on copper chemical mechanical polishing: Combined experiment and DFT study 三唑类化合物对铜化学机械抛光缓蚀机理的实验与DFT研究
相关领域
钝化
铜
腐蚀
三唑
化学
吸附
扫描电子显微镜
缓蚀剂
分子轨道
结晶学
无机化学
材料科学
物理化学
分子
有机化学
图层（电子）
复合材料
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期刊：Applied Surface Science 作者：Jianghao Liu; Xinhuan Niu; Yingqian Jia; Ni Zhan; Yida Zou; et al 出版日期：2024-05-01 |
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