| 标题 |
Modeling diffusion and depletion in high-aspect-ratio atomic layer deposition processes: Process parameters and manufacturing impacts 相关领域
原子层沉积
材料科学
沉积(地质)
表面积体积比
扩散
过程(计算)
纳米技术
吞吐量
纵横比(航空)
多孔性
化学气相沉积
计算机科学
图层(电子)
工艺工程
生物系统
化学工程
光电子学
复合材料
工程类
物理
热力学
古生物学
沉积物
操作系统
电信
无线
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Victor A. Vogt; Andrew J. Gayle; Andrés Miranda Mañón; Andrej Lenert; Neil P. Dasgupta 出版日期:2025-09-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|