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Advanced lithography materials: From fundamentals to applications
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纳米光刻 光刻胶 抵抗 纳米技术 光刻 极紫外光刻 平版印刷术 制作 材料科学 下一代光刻 图层(电子) 电子束光刻 光电子学 医学 替代医学 病理
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DOI
10.1016/j.cis.2024.103197 doi
其它 期刊:Advances in Colloid and Interface Science
作者:Yanhui Zhang; Haojie Yu; Li Wang; Xudong Wu; Jiawen He; et al
出版日期:2024-05-19
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巴卡玛卡 在 2025-10-14 16:57:18 发布自江西,悬赏 10 积分
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