A Highly Sensitive Photoplethysmography Sensor Enabled by a Highly Transparent Micromesh OLED Fabricated via an In Situ Mask Evaporation Process

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标题	A Highly Sensitive Photoplethysmography Sensor Enabled by a Highly Transparent Micromesh OLED Fabricated via an In Situ Mask Evaporation Process
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.5c19764
DOI	10.1021/acsami.5c19764 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Dong Gyun Kim; Minseong Park; Young Woo Kim; Eou-Sik Cho; Yongmin Jeon; Sang Jik Kwon 出版日期：2026
求助人	臣不穀在 2026-04-13 20:00:22 发布自广东，悬赏 10 积分
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