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标题
Pulsed high-density plasmas for advanced dry etching processes
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DOI
10.1116/1.4716176 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
作者:Samer Banna; Ankur Agarwal; Gilles Cunge; Maxime Darnon; Erwine Pargon; Olivier Joubert
出版日期:2012
求助人
byyyy 在 2026-05-18 22:49:56 发布自陕西,悬赏 10 积分
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