Proximity rapid thermal diffusion for simultaneous phosphorus and boron doping of silicon

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标题	Proximity rapid thermal diffusion for simultaneous phosphorus and boron doping of silicon
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2026.110778
DOI	10.1016/j.mssp.2026.110778 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Aiganym Suleimenova; Dina Akhmetova; Sofiya Dvornikova; Aizhan Kusainova; Kair Nussupov; et al 出版日期：2026
求助人	dery 在 2026-06-09 18:01:43 发布自中国，悬赏 10 积分
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