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 Effect of nanosilica abrasive properties on tungsten chemical mechanical planarization 纳米二氧化硅磨料性能对钨化学机械平坦化的影响
相关领域
化学机械平面化
钨
磨料
材料科学
复合材料
冶金
抛光
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| 其它 |
期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics 作者：J.P. Zhang; Rong Guo; L. Wang; Wenxiang Xie; Deng Pan; et al 出版日期：2024-02-01 |
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