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 Controlled Microfabrication of High‐Aspect‐Ratio Structures in Silicon at the Highest Etching Rates: The Role of H2O2 in the Anodic Dissolution of Silicon in Acidic Electrolytes 在最高蚀刻速率下硅中高纵横比结构的受控微加工：H2O2在酸性电解质中硅阳极溶解中的作用
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期刊：Advanced Functional Materials 作者：Chiara Cozzi; Giovanni Polito; Kurt W. Kołasiński; Giuseppe Barillaro 出版日期：2016-12-12 |
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