Comparative simulation analysis of displacement Talbot lithography and DUV dry projection lithography for high-resolution periodic patterning

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标题	Comparative simulation analysis of displacement Talbot lithography and DUV dry projection lithography for high-resolution periodic patterning
网址	https://doi.org/10.1117/12.3091965
DOI	10.1117/12.3091965 doi
其它	期刊：Novel Patterning Technologies 2026 作者：Stefan Rietmann; Kelsey Wooley; Zhixin Wang; Harun Solak; Lawrence S. Melvin; et al 出版日期：2026-04-09
求助人	aa3294 在 2026-07-31 13:12:05 发布自北京，悬赏 20 积分
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