Loading Effect during SiGe/Si Stack Selective Isotropic Etching for Gate-All-Around Transistors

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标题	Loading Effect during SiGe/Si Stack Selective Isotropic Etching for Gate-All-Around Transistors
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.4c01462
DOI	10.1021/acsaelm.4c01462 doi
其它	期刊：ACS applied electronic materials 作者：Hua Shao; Tobias Reiter; Rui Chen; Junjie Li; Ziyi Hu; et al 出版日期：2024-10-14
求助人	Ica 在 2026-07-07 20:55:54 发布自湖北，悬赏 10 积分
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