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First Large-Scale (68 × 25 × 5 nm3) Atomistic Modeling for Accurate and Efficient Etching Process Based on Machine Learning Molecular Dynamics (MLMD) |
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期刊: 作者:Zemeng Feng; Ziyi Hu; Tong Yu; Panpan Lai; Rui Ge; et al 出版日期:2024-12-07 |
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