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Plasma-relaxation-assisted atomic layer deposition of ultralow-k amorphous boron nitride with enhanced ambient stability |
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Inkyu Sohn; Jeongwoo Seo; Taehoon Kim; Minji Kim; Jisang Yoo; et al 出版日期:2026-11-01 |
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(2025-6-4)