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标题
Comparative effects of plasma treatments on SiO2 surface and bonding performance for wafer and hybrid bonding
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DOI
10.1016/j.sse.2025.109246 doi
其它 期刊:Solid-State Electronics
作者:Sung-Min Park; S. Jung; Joong-Heon Kim; Seung Heon Shin; Jaejin Lee
出版日期:2025-09-01
求助人
JZCT 在 2026-07-10 15:13:31 发布自山东,悬赏 10 积分
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