| 标题 |
The role of plasma in plasma-enhanced atomic layer deposition of crystalline films 等离子体在等离子体增强原子层沉积晶体薄膜中的作用
相关领域
原子层沉积
等离子体
沉积(地质)
材料科学
图层(电子)
纳米技术
结晶度
化学物理
化学工程
化学
物理
复合材料
工程类
古生物学
生物
量子力学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:David R. Boris; Virginia D. Wheeler; Neeraj Nepal; S. B. Qadri; Scott G. Walton; et al 出版日期:2020-05-18 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)