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 Tetramethyl ammonium as masking agent for molecular stencil patterning in the confined space of the nano-channels of 2D hexagonal-templated porous silicas 四甲基铵作为掩蔽剂在二维六方模板多孔二氧化硅纳米通道的有限空间中进行分子模板图案化
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期刊：Physical Chemistry Chemical Physics 作者：Kun Zhang; Belén Albela; Mingyuan He; Yimeng Wang; Laurent Bonneviot 出版日期：2009-01-01 |
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