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Wet Cleaning of Cross-Contamination of High-k Dielectrics in Plasma Etch Tool 等离子体刻蚀工具中高k介质交叉污染的湿法清洗
相关领域
氢氟酸
污染
电介质
材料科学
半导体
湿法清洗
晶体管
蚀刻(微加工)
接受者
微电子
光电子学
分析化学(期刊)
化学工程
化学
纳米技术
冶金
环境化学
电气工程
图层(电子)
生态学
生物
凝聚态物理
有机化学
电压
工程类
物理
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| 其它 |
期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Viraj Pandit; H.G. Parks; Bert Vermeire; Srini Raghavan 出版日期:2006-01-01 |
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