Development of a Deep Anisotropic Reactive-Ion Etching Process for Silicon to Support the Fabrication of Microfluidic Devices

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标题	Development of a Deep Anisotropic Reactive-Ion Etching Process for Silicon to Support the Fabrication of Microfluidic Devices
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11580403/11580404/115808...
DOI	10.1109/usbereit70063.2026.11580878 doi
其它	期刊：2026 IEEE Ural-Siberian Conference on Biomedical Engineering, Radioelectronics and Information Technology (USBEREIT) 作者：Vsevolod V. Enns; Anastasia S. Mikheeva; Evgeniy A. Filatov; Vladimir A. Shalaev; Igor E. Lysenko 出版日期：2026-07-04
求助人	舒适的曼彤在 2026-10-09 17:16:49 发布自广东，悬赏 20 积分
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