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P‐2: Nitrogen Behaviors in PEALD‐Grown SiO 2 Films Using N 2 O Plasma Reactant and Its Application in ALD‐IZO TFTs |
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期刊:SID Symposium Digest of Technical Papers 作者:Dong-Gyu Kim; Kwang Su Yoo; Hye-Mi Kim; Jin-Seong Park 出版日期:2022-06-01 |
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(2025-6-4)