Etching Mechanisms and Surface Conditions for SiOxNy Thin Films in CF4 + CHF3 + O2 Inductively Coupled Plasma

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标题	Etching Mechanisms and Surface Conditions for SiOxNy Thin Films in CF4 + CHF3 + O2 Inductively Coupled Plasma
网址	http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s11090-019-0997...
DOI	10.1007/s11090-019-09973-w doi
其它	期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Junmyung Lee; Jihun Kim; Alexander Efremov; Changmok Kim; Hyun Woo Lee; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2019-03-16
求助人	goudan123 在 2026-04-14 13:39:11 发布自湖北，悬赏 10 积分
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