| 标题 |
Atomic-Layer-Deposition of Sn-Incorporated MoO2 Films as an Interface Control Layer for High-Performances TiO2-Based DRAM Capacitors |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Jae Hyeon Lee; Bo Keun Park; Taek-Mo Chung; Jeong Hwan Han 出版日期:2026 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)