Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films on TiN/Si substrates grown by pulsed laser deposition at CMOS-compatible temperatures

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标题	Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films on TiN/Si substrates grown by pulsed laser deposition at CMOS-compatible temperatures
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S027288422...
DOI	10.1016/j.ceramint.2025.08.321 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：C.F. Chirila; G.A. Boni; D.G. Popescu; C.M. Istrate; M.A. Husanu; et al 出版日期：2025-08-22
求助人	田浩在 2026-05-15 12:27:15 发布自天津，悬赏 10 积分
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