Ion- and electron-assisted gas-surface chemistry—An important effect in plasma etching

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标题	Ion- and electron-assisted gas-surface chemistry—An important effect in plasma etching
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/50/5/3189/18383425/...
DOI	10.1063/1.326355 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：J. W. Coburn; Harold F. Winters 出版日期：2003-02-15
求助人	LgY 在 2026-04-23 14:36:41 发布自北京，悬赏 10 积分
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