Analytical Model of Atomic Layer Deposition of Films on 3D Structures with High Aspect Ratios

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标题	Analytical Model of Atomic Layer Deposition of Films on 3D Structures with High Aspect Ratios 相关领域沟槽沉积（地质）材料科学图层（电子）纵横比（航空）原子层沉积保形涂层粘着系数涂层兴奋剂共形映射纳米技术复合材料光电子学几何学化学地质学物理化学数学解吸古生物学吸附沉积物
网址	https://doi.org/10.1134/s1063784218020123
DOI	10.1134/s1063784218020123 doi
其它	期刊：Technical Physics 作者：А. В. Фадеев; A. V. Myakon’kikh; K. V. Rudenko 出版日期：2018-02-01
求助人	valorain 在 2026-06-01 11:07:18 发布自上海，悬赏 10 积分
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