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 Supercritical CO2 drying of poly(methyl methacrylate) photoresist for deep x-ray lithography: a brief note 深x射线光刻用聚甲基丙烯酸甲酯光刻胶的超临界CO2干燥
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Rahul Shukla; Lala Abhinandan; Shivdutt Sharma 出版日期：2017-09-27 |
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