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标题
<title>New registration technique using voltage-contrast images for low-energy electron-beam lithography</title>
用于低能电子束光刻的使用电压对比度图像的新配准技术
相关领域
电子束光刻 抵抗 德拉姆 加速电压 平版印刷术 阴极射线 电压 光学 对比度（视觉） 材料科学 低压 梁（结构） 电子 光电子学 物理 纳米技术 图层（电子） 量子力学
网址
https://doi.org/10.1117/12.436671
DOI
10.1117/12.436671 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Tetsuro Nakasugi; Atsushi Ando; Kazuyoshi Sugihara; Motosuke Miyoshi; Katsuya Okumura
出版日期：2001-08-20
求助人
JJJJJJJJJ 在 2025-10-27 08:13:59 发布自海南，悬赏 20 积分
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