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标题
Optical proximity correction for anamorphic extreme ultraviolet lithography
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网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.16.4.041004
DOI
10.1117/1.jmm.16.4.041004 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS
作者：Chris Clifford; Michael Lam; Ananthan Raghunathan; Fan Jiang; Germain Fenger; et al
出版日期：2017-08-19
求助人
hewuan 在 2025-10-27 11:26:01 发布自四川，悬赏 20 积分
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