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Resist pattern inspection for defect reduction in sub-15 nm templates
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抵抗 材料科学 模板 平版印刷术 极端紫外线 纳米光刻 纳米技术 电子束光刻 极紫外光刻 光学 光电子学 图层（电子） 制作 物理 激光器 医学 替代医学 病理
网址
https://doi.org/10.1117/12.2572389
DOI
10.1117/12.2572389 doi
其它 期刊：
作者：Takeharu Motokawa; Machiko Suenaga; Kazuki Hagihara; Noriko Sakurai; Ryu Komatsu; et al
出版日期：2020-10-26
求助人
TianYue778 在 2025-10-27 11:25:36 发布自福建，悬赏 20 积分
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