| 标题 |
 Intrinsic stress of magnetron-sputtered niobium films 磁控溅射铌薄膜的本征应力
相关领域
氩
材料科学
溅射
铌
微观结构
复合材料
压力（语言学）
溅射沉积
极限抗拉强度
偏压
喷丸
冶金
薄膜
分析化学（期刊）
电压
残余应力
化学
纳米技术
电气工程
有机化学
工程类
色谱法
语言学
哲学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Thin Solid Films 作者：C.-T. Wu 出版日期：1979-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
tuanheqi
小青椒
zcl
Smar_zcl
changping
star
wlscj
lalala
风中冰香
个性的紫菜
哈基米德
GingerF
Tourist
那时花开
凤凰
小杭76
彭于彦祖
eric888
chenqiumu
菠菜
机灵班
yznfly
xxfsx
皖公网安备34019202002308
