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标题
Three-level pulsed plasma for highly selective SiO2/SiN etching of self-aligned contacts
三能级脉冲等离子体高选择性SiO2/SiN刻蚀自对准触点
网址
https://avs.scitation.org/doi/10.1116/1.5143221
DOI
10.1116/1.5143221 doi
求助人
Taotaochen 在 2025-08-29 16:45:51 发布自美国，悬赏 10 积分
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  • 1年前，求助关闭

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  • 1年前

    Taotaochen Taotaochen Lv1 求助人 发起了本次求助

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