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  Etching of GeSe2 chalcogenide glass and its pulsed laser deposited thin films in SF6, SF6/Ar and SF6/O2 plasmas 在SF6、SF6/Ar和SF6/O2等离子体中刻蚀GeSe2硫族玻璃及其脉冲激光沉积薄膜
相关领域
X射线光电子能谱
分析化学（期刊）
离子
材料科学
蚀刻（微加工）
化学
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物理
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有机化学
图层（电子）
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Thibaut Meyer; G LeDain; Aurélie Girard; A. Rhallabi; Marek Bouška; et al 出版日期：2020-08-19 |
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