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 Influence of substrate bias voltage on microstructure and mechanical characteristics of TiAlSiN coating deposited by High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) 衬底偏压对大功率脉冲磁控溅射TiAlSiN涂层组织和力学性能的影响
相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
偏压
涂层
微观结构
复合材料
粒度
溅射沉积
基质（水族馆）
溅射
电压
薄膜
纳米技术
电气工程
海洋学
工程类
地质学
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期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Chayan Ranjan Das; Mufaddal Rangwala; Amitava Ghosh 出版日期：2023-02-24 |
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