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 Multifactorial investigations of the deposition process – Material property relationships of ZnO:Al thin films deposited by magnetron sputtering in pulsed DC, DC and RF modes using different targets for low resistance highly transparent films on unheated substrates 用不同靶材在脉冲DC、DC和RF模式下磁控溅射沉积ZnO：Al薄膜的沉积工艺-材料性能关系的多因素研究
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溅射
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期刊：Vacuum 作者：Aleksandra Wójcicka; Zsolt Fogarassy; A.S. Racz; Tatyana Kravchuk; Grzegorz Sobczak; et al 出版日期：2022-06-30 |
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