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标题
Study of hafnium oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering under glancing angle deposition at varying target to substrate distance
不同靶基距下掠射角射频磁控溅射氧化铪薄膜的研究
相关领域
材料科学 溅射沉积 沉积(地质) 薄膜 基质(水族馆) 结晶度 溅射 椭圆偏振法 分析化学(期刊) 光学 纳米技术 复合材料 化学 古生物学 海洋学 色谱法 沉积物 地质学 生物 物理
网址
DOI
10.1016/j.apsusc.2015.06.077 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:S. Maidul Haque; K. Divakar Rao; J. S. Misal; R.B. Tokas; D. D. Shinde; et al
出版日期:2015-06-23
求助人
lettuce 在 2025-08-01 10:54:08 发布自中国,悬赏 10 积分
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