| 标题 |
Development of fluoropolymer for 193nm immersion lithography |
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10.1117/12.656234
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| 其它 |
期刊:SPIE Proceedings 作者:Naoko Shirota; Yoko Takebe; Takashi Sasaki; Osamu Yokokoji; Minoru Toriumi; et al 出版日期:2006-05-17 |
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(2025-6-4)