Analysis of plasma etching resistance for commercial quartz glasses used in semiconductor apparatus in fluorocarbon plasma

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标题	Analysis of plasma etching resistance for commercial quartz glasses used in semiconductor apparatus in fluorocarbon plasma
网址	https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2021.125015
DOI	10.1016/j.matchemphys.2021.125015 doi
其它	期刊：Materials Chemistry and Physics 作者：Jae Ho Choi; JiSob Yoon; YoonSung Jung; Kyung Won Min; Won Bin Im; et al 出版日期：2021-07-13
求助人	李丽阳在 2026-11-02 11:01:55 发布自北京，悬赏 10 积分
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