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 Research progress of CeO2-based polishing slurry in SiC-CMP SiC-CMP中CeO2基抛光浆料的研究进展
相关领域
抛光
化学机械平面化
材料科学
泥浆
磨料
碳化硅
制作
冶金
固体力学
复合数
碳化物
高能
复合材料
过程（计算）
硅
半导体器件制造
研究开发
半导体
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期刊：Journal of Materials Science 作者：Ning Xu; Guosheng Zhang; Jian Zhang; Ziheng Gao; Yu Lin; et al 出版日期：2025-10-24 |
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