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Dissolution kinetics of main-chain-scission-type resist in organic developers 主链断裂型抗蚀剂在有机显影剂中的溶解动力学
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抵抗
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期刊:Applied Physics Express 作者:Ayako Nakajima; Keiko Matsuo; Takahiro Kozawa 出版日期:2020-12-28 |
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