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 Plasma processing and annealing for defect management at SiO2/Si interface SiO2/Si界面缺陷管理的等离子体处理和退火
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Shota Nunomura; Takayoshi Tsutsumi; Isao Sakata; Masaru Hori 出版日期：2023-08-18 |
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