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标题
Effect of Gate Bias and Channel Length on Total Dose Effect in FinFET Bulk Silicon Devices
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11159652/11159637/111596...
DOI
10.1109/isaeece66033.2025.11159638 doi
其它 期刊：2025 10th International Symposium on Advances in Electrical, Electronics and Computer Engineering (ISAEECE)
作者：Xiaodong Zhao; Fan Yang; Xun-Ying Zhang; Hongxia Wang; Yuan-Yuan Cui
出版日期：2025-06-20
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陈瑞 在 2026-09-14 03:59:11 发布自美国，悬赏 10 积分
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  • 14小时前

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