Role of N2 during chemical dry etching of silicon oxide layers using NF3/N2/Ar remote plasmas - 科研通

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标题	Role of N2 during chemical dry etching of silicon oxide layers using NF3/N2/Ar remote plasmas
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016793170...
DOI	10.1016/j.mee.2006.11.007 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Duck-Jin Kim; Y. Yun; J. Y. Hwang; N. Lee; K. Kim; et al 出版日期：2007-04-01
求助人	小怪在 2026-08-14 11:36:14 发布自安徽，悬赏 10 积分
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