Properties of low-resistivity molybdenum metal thin film deposited by atomic layer deposition using MoO2Cl2 as precursor

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标题	Properties of low-resistivity molybdenum metal thin film deposited by atomic layer deposition using MoO2Cl2 as precursor
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003361
DOI	10.1116/6.0003361 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：So Young Kim; Chunghee Jo; Hyerin Shin; Dongmin Yoon; Donghyuk Shin; et al 出版日期：2024-03-27
求助人	你嵙这个期刊没买在 2026-08-20 23:04:51 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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