| 标题 |
Immersion Lithography: Photomask and Wafer-Level Materials 相关领域
光掩模
浸没式光刻
材料科学
平版印刷术
沉浸式(数学)
薄脆饼
光刻
下一代光刻
抵抗
纳米技术
光学
数值孔径
无光罩微影
X射线光刻
折射率
光电子学
电子束光刻
波长
物理
数学
图层(电子)
纯数学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Annual Review of Materials Research 作者:Roger H. French; Hoang V. Tran 出版日期:2009-07-06 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)