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 Study of a high contrast process for hydrogen silsesquioxane as a negative tone electron beam resist 相关领域
抵抗
倍半硅氧烷氢
电子束光刻
材料科学
氢氧化铵
再现性
平版印刷术
对比度（视觉）
扫描电子显微镜
阴极射线
灵敏度（控制系统）
电子
光学
分析化学（期刊）
光电子学
纳米技术
化学
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色谱法
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工程类
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：W. Henschel; Yordan M. Georgiev; H. Kurz 出版日期：2003-09-01 |
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